如果说特斯拉产业链的希望是美国人给的，那国产芯片的希望，中国人只能自己给自己。

正逢A股泥沙俱下之时，特斯拉新晋供应商——宁德时代连续两天逆势大涨，抢尽风头。但有一个“不起眼”的板块在今天（2月4日）的反弹中一闪而过——光刻胶，中国在这个行业中有最大的市场、急切的国产化需求，也有令人欣喜的技术突破，大跌之后元气还未恢复，实际上，光刻胶的盛宴才刚开始！

一、全球最大市场，却牢牢掌握在美国日本手里

对光刻胶稍有了解的朋友可能听说过：这是一种芯片制造的关键材料。其实光刻胶还用在PCB（印制电路板）和LCD（显示屏）的生产中，技术要求最低的是PCB光刻胶，最高的是半导体（芯片）光刻胶。

虽然总体行业规模不大，全球90亿美元左右，但中国大陆已经成为最大的光刻胶市场，需求量世界第一，且2011年至今，中国光刻胶需求量复合增速高达11%，远高于全球平均的5%。

这么大一块蛋糕，中国人自己却吃不了，大部分钱都被美国和日本两个国家赚去了，因为技术要求太高了。整个光刻胶行业前七大厂商（基本为美国、日本）占据了全球95%的市场份额。其中，日本的JSR、东京应化、日本信越与富士电子材料四家就瓜分了72%的市场。

这么重要的材料，不可能一直让美国、日本掌控！

二、自主可控迫在眉睫！

之前的中国在光刻胶行业落后太多了，国产化程度至今仍很低。

技术要求最低的PCB光刻胶国产化率虽然已达58%，但这种光刻胶毕竟是劳动密集型产品，技术含量不高，价格一直在下降；

而在LCD领域，国产化率只有10%左右，且集中于低端LCD上，相对高端的TFT-LCD显示屏用的光刻胶国产化率很低。

最关键的半导体（芯片）光刻胶，中国与美日技术差距很大，国产化率不足5%。根据技术含量不同，有g 线（436nm）→i 线（365nm）→KrF（248nm）→ArF（193nm）→EUV（13.5nm）五个级别。

为了避免老教授式的硬核表述风格，我们把这五种芯片光刻胶分别叫做小g、小i、小K、小A和小E。

小g、小i技术含量低，只能用于小尺寸的6寸晶圆，国产化率约20%。

小K能用于8寸晶圆，但国产化率只有5%。

能用于12寸晶圆的小A，国产化率为0。

如果这些型号的光刻胶能通过研发来突破，那顶尖的光刻胶——小E就难了，研发它必须有顶尖的光刻机。我们现在还造不出来，而且有钱也不能在光刻机上为所欲为。

1月6日路透社报道，中国早在2018年就向全世界唯一一家能生产顶尖光刻机的公司——荷兰ASML采购可以用于研发小E的光刻机，但美国一直向荷兰施压，最终搅黄了这笔生意，今年年初采购被迫中止。

中国想生产出100nm以内的高端芯片，唯一的路是自己造光刻机了。当年老一辈用算盘造出了原子弹，这次我们条件好了千倍万倍，相信光刻胶、光刻机两大尖端技术，也照样能顺利攻克。

此外，未来几年全球新增的芯片制造产能大部分集中在中国，对光刻胶的需求量将会井喷。

所以，不管是国家安全的考虑，还是市场需求，中国在半导体光刻胶上都必须自给自足，而且这个需求还很急切！

三、芯片用的光刻胶才是重点

为什么现在要说光刻胶？毕竟医药、特斯拉相关的公司都更受资本市场欢迎。

看完上面这些应该有答案：自主可控+需求爆发的光刻胶主要是半导体（芯片）用的光刻胶，在较低端的PCB和LCD实现国产替代的厂商，在今天的反弹中实际不太给力，比如广信材料、容大感光。而在稍高端的小K和小A两种光刻胶上实现技术突破（还没量产）的晶瑞股份、南大光电表现尚可。

（图：国内半导体光刻胶厂商现状；来源：广发证券）

这是否能说明资金已经开始关注在高端光刻胶领域的硬核芯片股了？两家公司的光刻胶何时能爆发？现在的估值是开始还是结束？时金研究所原创